多款化合物长晶炉批量交付海内外多家客户，SiC/InP/AlN/+F₂等多材料助力客户，VGF/VB/CZ/LPE全矩阵发力!

近日，中国3044永利集团(股份)有限公司-官方网站自主研发的多款长晶设备迎来新一轮批量发货，多款设备持续从宝山生产基地启运，发往海内外多家客户。这标志着公司化合物长晶设备正式从国内市场迈向国际市场，开启与国际厂商同台竞争的新阶段。 

化合物长晶炉：精密温控，稳定生长

上海汉虹化合物长晶炉覆盖VB、CZ、VGF及LPE法多种工艺路线，可在高真空、高正压环境下完成长晶。

设备腔体内壁经镜面抛光处理，有效减少杂质附着，具备高真空、高正压和长时间保压能力；温控系统精度高，可实现精细梯度控制，满足氧化物、硫化物、氮化物、氟化物等多种化合物晶体的生长工艺要求。

设备支持全自动工艺管理，系统自动记录关键工艺参数并生成报告，方便用户追溯与优化；冷却系统实时监测并具备自动防护功能，兼顾安全性与操作便捷性。同时，设备适配定制坩埚，可满足不同化合物材料及尺寸的生长需求。

半导体装备领域的扎实积累

上海汉虹在半导体长晶设备领域已耕耘多年，产品线覆盖PVT碳化硅长晶炉（感应式/电阻式）、LPE碳化硅长晶炉、VGF化合物长晶炉、CZ法单晶硅长晶炉以及VB法等多种品类，涵盖6英寸至26英寸不同规格。

公司自主研发的化合物长晶炉已成功产出高品质晶体，在热场设计、自动控制、远程监控等方面积累了丰富经验。化合物长晶炉系列已实现批量交付，其中自主研发的上称重法自动直径控制系统已在多条生产线中稳定应用。

在单晶硅领域，12英寸半导体单晶炉已批量应用于产线。同时，汉虹在半导体装备领域不断拓展，PVD镀膜设备和晶圆清洗设备也已实现样机交付，为客户提供更全面的工艺解决方案。
后续技术升级及产品规划方向

面向半导体材料装备的广阔需求，上海汉虹将继续深耕晶体生长与加工设备的技术升级与产品迭代：

化合物长晶炉系列（VGF、VB、CZ、LPE）：在温场均匀性、全自动智能化控制、大尺寸适配能力等方面持续优化；

PVD镀膜设备与晶圆清洗设备：持续推进性能提升与工艺兼容性扩展；

加强与产业链客户的协同创新，推动碳化硅、单晶硅等核心装备的国产化替代与规模化应用。

未来，汉虹还将拓展更多新材料领域的装备研发，致力于为全球半导体材料制造商提供更可靠、更高效的系统解决方案，为中国高端装备制造业的高质量发展贡献力量。